진공 챔버 기술
펨토사이언스의 진공챔버는 일반적인 챔버와는 달리 CFD분석과 공학적 설계를 통하여
완벽하고 균일한 플라즈마를 생성시키는 펨토사이언스만의 독자적인 챔버입니다.
Plasma Etching Mode
Single Electrode
PE / RIE (Reactive Ion Etching) Mode
Dual Electrode
플라즈마 공정에 있어, 진공 챔버는 내부 가스를 배출시키는 구조에 따라서, 횡형 챔버 및 종형 챔버로 구분 할 수 있습니다.
펨토사이언스의 특허받은 챔버는 균일한 Pumping Flow가 보장되며, 탁월한 Process Uniformity를 제공합니다.
(특허: 10-1701381, 10-1697205)